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制藥廠采用什么廢氣處理設(shè)備能達標排放?

文章出處:人氣: 發(fā)表時間:2019-03-11 11:06:54
  制藥廠的環(huán)保問題一直是國家所關(guān)注的問題之一,主要是制藥產(chǎn)生的廢水和廢氣含有細菌、酸堿廢氣和惡臭會對周圍的環(huán)境造成很大的污染,對人體的傷害也是巨大的。目前針對制藥廠的廢氣處理方法有吸附脫附處理、催化燃燒、噴淋塔洗滌酸堿廢氣、雙堿法、低溫等離子+復合光催化、冷凝、生物膜法、脈沖電暈法等。那么廢氣處理設(shè)備采用什么處理方法可以達到《惡臭污染物排放標準》(GB14554-93)中的二級標準值呢?這里介紹兩種比較好用的制藥廠廢氣處理技術(shù)。

  1.生物過濾廢臭氣凈化工藝采用“微生物”降解技術(shù),利用生長在濾料上的除臭微生物對H2S、SO2、NH3等及大部分揮發(fā)性的有機異味物進行降解,凈化率可達98-99 %。系統(tǒng)壽命長達10年以上,能在室外-20℃-40℃的范圍正常工作??梢匀赀\行,每天連續(xù)運行24 h,其處理過程不產(chǎn)生二次污染。而且系統(tǒng)占地面積小,節(jié)省土地資源。

  2.低溫等離子+復合光催化是利用醫(yī)藥等行業(yè)在生產(chǎn)中產(chǎn)生的大流量、低濃度有機廢氣特點,核心是首先用低溫等離子體產(chǎn)生高能量電子,直接分解廢氣因子中的有害氣體,使其迅速形成小分子碎片,降解生成CO2,H2O等,再利用光觸媒的作用,降解尚未完成降解的各類有害氣體,從而達到對車間生產(chǎn)廢氣較為滿意的綜合降解效果。

  在制藥廠利用低溫等離子+復合光催化凈化廢氣的整套設(shè)備的分布流程是:首先是廢氣源→廢氣進入活性炭裝置與惡臭氣體中H2S發(fā)生反應(yīng).SW型高效除臭劑脫硫→廢氣在進入PM水氣分離器去除水分→在進進入等離子+光催化的反應(yīng)器被分解,最終生成二氧化碳和水→風機把處理達標的廢氣通過排氣管排出。
低溫等離子凈化器

等離子廢氣處理設(shè)備

  低溫等離子體技術(shù)是近年發(fā)展起來的廢氣處理新技術(shù),低溫等離子體處理廢氣的原理為:當外加電壓達到氣體的放電電壓時,氣體被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解,以達到降解污染物的目的。

  從上面我們可以看出低溫等離子+復合光催化廢氣處理設(shè)備具有電極與廢氣不直接接觸,不存在設(shè)備腐蝕問題,設(shè)備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,氣阻小,適用于高流速,大風量的廢氣處理,介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的氣體分子作用,工藝已相對成熟。目前對廢氣處理這塊來說,以后是趨勢。